- Sections
- G - Physique
- G03F - Production par voie photomécanique de surfaces texturées, p.ex. pour l'impression, pour le traitement de dispositifs semi-conducteurs; matériaux à cet effet; originaux à cet effet; appareillages spécialement adaptés à cet effet
- G03F 1/36 - Masques à correction d'effets de proximité; Leur préparation, p.ex. procédés de conception à correction d'effets de proximité [OPC optical proximity correction]
Détention brevets de la classe G03F 1/36
Brevets de cette classe: 948
Historique des publications depuis 10 ans
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2015 | 2016 | 2017 | 2018 | 2019 | 2020 | 2021 | 2022 | 2023 | 2024 |
Propriétaires principaux
Proprétaire |
Total
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Cette classe
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Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. | 36809 |
214 |
ASML Netherlands B.V. | 6816 |
133 |
Samsung Electronics Co., Ltd. | 131630 |
95 |
D2s, Inc. | 150 |
43 |
Synopsys, Inc. | 2829 |
40 |
United Microelectronics Corp. | 3921 |
35 |
Siemens Industry Software Inc. | 1633 |
23 |
International Business Machines Corporation | 60644 |
21 |
Intel Corporation | 45621 |
20 |
Changxin Memory Technologies, Inc. | 4732 |
16 |
Csmc Technologies Fab2 Co., Ltd. | 664 |
13 |
GLOBALFOUNDRIES U.S. Inc. | 6459 |
12 |
Semiconductor Manufacturing International (Shanghai) Corporation | 1764 |
12 |
Kioxia Corporation | 9847 |
11 |
Canon Inc. | 36841 |
8 |
Dai Nippon Printing Co., Ltd. | 3891 |
8 |
KLA-Tencor Corporation | 2574 |
8 |
Semiconductor Manufacturing International (Beijing) Corporation | 1019 |
8 |
Micron Technology, Inc. | 24960 |
7 |
Lam Research Corporation | 4775 |
7 |
Autres propriétaires | 214 |